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山东AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

更新时间:2025-11-01      点击次数:16

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。真空镀膜机哪个牌子的好?山东AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate:膜层承受体。试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。上海光学薄膜空心阴极霍尔离子源多少钱真空镀膜机的操作培训。

【真空镀膜机之真空泵的维护和保养】1、经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。以泵运转时,油位到油标中心为准。2、经常检查油质情况,发现油变质应及时更换新油,确保泵工作正常。3、换油期限按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑,由用户酌情决定。一般新泵,抽除清洁干燥的气体时,建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后,以后可适当延长换油期限。4、一般情况下,泵工作2000小时后应进行检修,检查桷胶密封件老化程度,检查排气阀片是否开裂,清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个泵腔内的零件,如转子、旋片、弹簧等。一般用汽油清洗,并烘干。对橡胶件类清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放小心碰伤。5、有条件的对管中同样进行清理,确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行,一般须空运转2小时并换油二次,因清洗时在泵中会留有一定量易挥发物,待运转正常后,再投入正常工作。7、本系列泵油采用专业用真空泵油。

【真空镀膜真空的基本概念】:真空的划分:粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr极高真空

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则:(1)先功能,后结构。先给出指标参数、生产要求、功能;(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整体。再由整体,定局部。(4)先设计,后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标:镀膜方法:CVD,PVD(蒸发、溅射、离子镀、复合镀);被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。空心阴极霍尔离子源可用于制备高纯度的金属、合金和化合物材料。河南空心阴极霍尔离子源专业生产

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【真空镀膜机清洗工艺之紫外线辐照清洗】利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如,在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中.要不了几分钟就可以形成清洁表面(工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是:在紫外线照射下,污物分子受激并离解,而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用.形成较简单易挥发分子.如H203、CO2和N2.其反应速率随温度的增加而增加。山东AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

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